RTP快速退火爐是一種高溫?zé)崽幚碓O(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域，通過精確控制加熱和冷卻過程中的溫度和時(shí)間，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料性質(zhì)或結(jié)構(gòu)的精細(xì)調(diào)整和優(yōu)化處理。在RTP退火爐改造中增加氧分析儀的原因主要有以下幾點(diǎn)：

一、控制爐內(nèi)氣氛

RTP退火爐在工作時(shí)，爐內(nèi)通常處于正壓狀態(tài)且氧含量幾乎為零，這是為了防止外界空氣進(jìn)入，避免對(duì)爐內(nèi)氣氛造成污染，從而影響產(chǎn)品的品質(zhì)。然而，由于爐內(nèi)氧分壓不足，空氣中的氧還是會(huì)少量擴(kuò)散到爐內(nèi)。通過增加氧分析儀，可以實(shí)時(shí)監(jiān)測爐內(nèi)氧含量的變化，確保爐內(nèi)氣氛的穩(wěn)定性和可控性。

二、預(yù)防漏氣問題

當(dāng)退火爐內(nèi)的氧含量出現(xiàn)異常時(shí)，可能是由于預(yù)熱段入口密封棍密封性能不足、密封氮?dú)庑Ч芳?，或者冷卻段循環(huán)風(fēng)機(jī)入口處及相關(guān)管道閥件存在漏氣現(xiàn)象等原因?qū)е碌?。通過氧分析儀的監(jiān)測，可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)這些潛在的漏氣問題，并采取相應(yīng)的措施進(jìn)行修復(fù)，從而避免漏氣對(duì)爐內(nèi)氣氛和產(chǎn)品品質(zhì)的影響。

三、提高產(chǎn)品品質(zhì)

在RTP退火爐的生產(chǎn)過程中，氣體成分的變化直接影響產(chǎn)品的品質(zhì)。通過氧分析儀的實(shí)時(shí)監(jiān)測，可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)爐內(nèi)氣氛的異常變化，并采取相應(yīng)的措施進(jìn)行調(diào)整，以確保產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性。這對(duì)于提高產(chǎn)品的合格率、降低生產(chǎn)成本具有重要意義。

四、實(shí)現(xiàn)智能化控制

隨著科技的不斷發(fā)展，智能化控制已經(jīng)成為工業(yè)生產(chǎn)的重要趨勢。通過增加氧分析儀，可以將其實(shí)時(shí)監(jiān)測的數(shù)據(jù)與PLC控制系統(tǒng)進(jìn)行連接，實(shí)現(xiàn)對(duì)爐內(nèi)氣氛的智能化控制。這不僅可以提高生產(chǎn)效率，還可以降低人工操作的誤差和成本，為企業(yè)的可持續(xù)發(fā)展提供有力支持。

綜上，RTP退火爐改造中增加氧分析儀是非常必要的。它不僅可以實(shí)時(shí)監(jiān)測爐內(nèi)氧含量的變化，確保爐內(nèi)氣氛的穩(wěn)定性和可控性，還可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)潛在的漏氣問題、提高產(chǎn)品品質(zhì)、實(shí)現(xiàn)智能化控制等，因此推薦半導(dǎo)體設(shè)備Microx-223氧氣分析儀。

產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)如下：
測量范圍： 1ppm-25%自動(dòng)量程       

測量精度：
±2ppm @1…19.9ppm

±5ppm @20…99.9ppm

±3%FS @100…999.9ppm

±3%FS @1000…9999.9ppm

測量值的3% @1.00%…25%